février

MOR: Booster le LC

Le pourcentage de LC à EMI est généralement compris entre 25 et 30 %, le reste étant du MC, ce qui correspond au besoin du marché. Habituellement, 1 soufflage de LC est effectué tous les 3 ou 4 soufflages.

Le LC nécessite un temps de soufflage plus long et atteint une température plus élevée qui accélère l’usure du  réfractaire, en particulier si le %Si est supérieur à 0,15-0,2 %.

En cas de manque de temps ou lorsque l’usure du réfractaire indiquée par le laser est sévère ou si le % Si est supérieur à 0,2 % dans le HC, le soufflage du LC est interrompu. Il est difficile de rattraper les tonnes perdues. Le LC est souvent produit avec des petites ou moyennes coulées.

Après une période de faible production de LC, l'équipe MOR a lancé une nouvelle stratégie pour augmenter la quantité de LC sans pénaliser la durée de vie du réfractaire et les séquences de tapping :

- Après un soufflage de MC, un peu de MC (15 à 20klb) est conservé dans le réfractaire.

- Du nouveau HC est versé dessus.

- Le mélange de MC et HC est soufflé en LC. Le facteur O₂ nécessaire est inférieur puisque le pourcentage de carbone de départ est inférieur.

Cela permet d'atteindre un ratio LC de 40% en 4 jours avec un impact minimal sur l'usure et le rythme !!!

Ray Baker
Ingénieur Process Sénior
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